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永光化学光阻系列 满足半导体新应用

时间:2019-05-06 01:01研磨液技术信息网 点击:

永光化学光阻系列 满足半导体应用

04:112018/10/09

工商时报

李水莲

永光化学副总经理林昭文(左六)与永光电化事业处处长孙哲仁(左五)及团队合影。图/李水莲

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永光化学电子化学事业,歷经20多年的研发技术,不仅完整布局半导体制程G&I-Line光阻产品版图;推出SiC专用研磨液,并着墨于晶圆级封测与系统级封装所需之化学增幅型光阻剂、显影液、研磨液、特殊油墨等一应俱全,以满足半导体新世代产品应用

永光化学副总经理林昭文表示,永光化学的电化产品,已具备20nm超洁净化学品量产能力,同时也是全球6家国际大厂的光电、半导体制程材料合作厂商。2018年永光化学持续推出旗下两大光阻应用:厚膜封装光阻EPP 110;关键层I-line光阻EPI 630。EPP 110主要可用于电镀铜,最高可用厚膜=25um,深宽比5,具备业界竞争力。

即使面对大陆红色供应链崛起,永光化学在大陆市场永不缺席。永光化学于20年前进入中国大陆,在既有产品下,持续开发多项高性能材料、建立验证产线。永光苏州厂将积极寻找在地生产,透过客制化代工,提高永光化学的竞争优势。「永光服务创新、材料开发与技术突破,已成两岸客户首选。」林昭文补充道。

面对2.5D与3D晶片堆迭的技术演进,永光化学目前着重于封测产业使用之黄光化学品,推出ECA 150化学增幅型光阻剂、ENPI 503负型光阻剂、EPD 56显影剂,主要针对金凸块(Gold Bump)、铜柱(Cu Piller)与重布线制程(RDL)等制程使用。

因应5G、大数据与物联网趋势来临,碳化硅(SiC)半导体功率元件逐渐受到重视,永光不缺席新产品的开发,推出SiC专用研磨液,为新半导体时代来临做好产品就位。

#半导体 #缺席

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